玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

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检测设备
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400M核磁共振谱仪
设备型号:Bruker,AVANCE NEO 400M
主要功能:10.主要应用于有机化合物结构分析与性能研究
样品尺寸:
X-ray CT
设备型号:Nordson,Dage Quadra 7
主要功能:主要应用于在不破坏样品的条件下探究失效分析,焊丝连接完整性检查,元件开裂,MEMS检查和晶圆级元件,包括TSV和晶圆凸点等,非常适合于任何研究、开发、故障分析或质量控制实验室。
样品尺寸:成像几何最大放大倍数:2500X
磁学测量系统
设备型号:美国 Quantum Design,MPMS3
主要功能:主要用于基本的直流磁化率相关的测量、交流磁性测量、1000K高温磁测量和超低场、水平样品旋转杆、光诱导磁测量、高压磁测量以及电学测量等。
样品尺寸:
高分辨X射线衍射仪
设备型号:荷兰帕纳科,Empyrean
主要功能:主要用于对不同样品(粉末,薄膜,块状样品)在不同温度(常温,中低温,高温)进行物相鉴定。
样品尺寸:可以为粉末,块体或者薄膜。粉末要求研磨,重量大于200mg;块体和薄膜大于10mm×10mm,保证表面的平整性。样品应无毒,无辐射,不易挥发。
高速高分辨激光拉曼成像谱仪
设备型号:Horiba,LabRAM HR Evolution
主要功能:主要用于标准拉曼光谱采集、拉曼扫描成像、光致发光(PL)、变温拉曼光谱采集、变温拉曼扫描成像。
样品尺寸:
红外光谱仪
设备型号:HMS-5000(ECOPIA)
主要功能:11.可用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数
样品尺寸:
霍尔效应测试仪
设备型号:HMS-5000(ECOPIA)
主要功能:11.可用于测量半导体材料的载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数、导电类型等重要参数
样品尺寸:
接触角测试仪
设备型号:KRUSS,DSA25
主要功能:12.主要应用于液体对材料的接触角测量,表面处理工艺检测,表面洁净度测试以及涂层工艺的粘附性和稳定性研究
样品尺寸:
膜应力仪
设备型号:
主要功能:
样品尺寸:
纳米Xray显微镜
设备型号:Zeiss Xradia 520
主要功能:主要用于材料和结构在微米及纳米尺度的三维成像和研究。
样品尺寸:
全功能稳态瞬态荧光光谱仪
设备型号:EDINBURGH,FLS1000
主要功能:主要用于测量光致发光材料的激发光谱,发射光谱以及材料的荧光、磷光寿命和绝对量子产率等特性。可测量液体、粉末状及薄片状样品。
样品尺寸:
探针测试系统
设备型号:keithley 4200-scs
主要功能:主要用于材料研究、半导体器件设计、工艺开发或生产的复杂器件的测试。可进行电流-电压(I-V)、电容-电压 (C-V) 和超快脉冲 I-V 电学测试。
样品尺寸:8英寸以下
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