玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

18014914025
4.低压化学气相沉积
当前条件:4.低压化学气相沉积[删除]
低压化学气相沉积
设备型号:Tystar
主要功能:主要用于沉积SiO2(干氧和湿氧)、SiNx、Poly(多晶硅)。
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