玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

18014914025
6.等离子体化学气相沉积
当前条件:6.等离子体化学气相沉积[删除]
等离子体化学气相沉积
设备型号:Oxford,Plasma Pro System100
主要功能:主要用于沉积SiOx、SiNx、SiON。
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