玮斯特纳米科技（苏州）有限公司
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原子层沉积-Ⅱ
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原子层沉积-Ⅱ

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设备型号 Picosun 主要功能 主要用于沉积氧化硅、氧化铝、氮化钛等。
设备主要参数 衬底：8英寸及以下 工艺温度：小于500℃
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