玮斯特纳米科技（苏州）有限公司
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低压化学气相沉积
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低压化学气相沉积

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设备型号 Tystar 主要功能 主要用于沉积SiO2（干氧和湿氧）、SiNx、Poly（多晶硅）。
设备主要参数 衬底：4英寸 均匀性：优于3%
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