玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

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产品详情
低压化学气相沉积
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低压化学气相沉积

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设备型号 Tystar 主要功能 主要用于沉积SiO2(干氧和湿氧)、SiNx、Poly(多晶硅)。
设备主要参数 衬底:4英寸 均匀性:优于3%
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