玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

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物理气相沉积

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设备型号 Lesker PVD75、Lesker LAB18 主要功能 各类金属、半导体等。
设备主要参数 衬底:6英寸及以下 均匀性:5% 真空:优于110-7Torr 沉积速率:0.1-10 Å/s
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