玮斯特纳米科技(苏州)有限公司
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跨越突破 追求优质
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先进技术 实用功能
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产品详情
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物理气相沉积
13800000000
产品详情
设备型号
Lesker PVD75、Lesker LAB18
主要功能
各类金属、半导体等。
设备主要参数
衬底:6英寸及以下 均匀性:5% 真空:优于110-7Torr 沉积速率:0.1-10 Å/s
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