玮斯特纳米科技(苏州)有限公司

18014914025
产品详情
分享到:

物理气相沉积

产品详情
设备型号 Lesker PVD75、Lesker LAB18 主要功能 各类金属、半导体等。
设备主要参数 衬底:6英寸及以下 均匀性:5% 真空:优于110-7Torr 沉积速率:0.1-10 Å/s
会员登录
登录
其他账号登录:
我的资料
留言
回到顶部