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产品详情
等离子体化学气相沉积
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等离子体化学气相沉积

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设备型号 Oxford,Plasma Pro System100 主要功能 主要用于沉积SiOx、SiNx、SiON。
设备主要参数 衬底:6英寸及以下 均匀性:优于3%
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